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        Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡

        簡(jiǎn)要描述:Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見(jiàn)的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術(shù),這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時(shí)常見(jiàn)的散射和吸收損失降至最/低。

        • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
        • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
        • 更新時(shí)間:2026-02-08
        • 訪  問(wèn)  量:1513

        詳細(xì)介紹

        品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
        組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池

        Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡

        • 用于超快光束轉(zhuǎn)向的高反射率和低 GDD

        • 離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失

        • 設(shè)計(jì)波長(zhǎng)范圍內(nèi)的近零群延遲色散

        Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見(jiàn)的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射膜技術(shù),這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時(shí)常見(jiàn)的散射和吸收損失降至最/低 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用,因?yàn)樗鼈儗⒈3殖堂}沖持續(xù)時(shí)間,而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時(shí)很難保持這種持續(xù)時(shí)間。

        通用規(guī)格

        入射角 (°):45鍍膜類型:
        S1: Dielectric
        S2: Stress-compensating
        波長(zhǎng)范圍 (nm):500 - 540, 1000 - 1070
        后表面:Commercial Polish鍍膜規(guī)格:
        Rs>99.9% @500-540nm;
        Rp>99.8% @505-530nm;
        Rs>99.9% @1000-1070nm,
        Rp>99.8% @1000-1070nm
        基底:Fused Silica
        平行度(弧分):<3
        有效孔徑 (%):>90
        典型應(yīng)用:Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers
        <35fs2@ 500 - 540nm (s-pol)
        <50fs2@ 505 - 530nm (p-pol)
        <20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol)
        <40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol)
        鍍膜:Ultrafast (500-540, 1000-1070nm)
        表面質(zhì)量:10-5GDD Specification:
        設(shè)計(jì)波長(zhǎng) DWL (nm):515, 1030


        產(chǎn)品型號(hào)

        標(biāo)題產(chǎn)品編碼
        515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-286
        515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-287
        515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-288


        雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見(jiàn)的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射膜技術(shù),這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時(shí)常見(jiàn)的散射和吸收損失降至最/低 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用,因?yàn)樗鼈儗⒈3殖堂}沖持續(xù)時(shí)間,而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時(shí)很難保持這種持續(xù)時(shí)間。

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